库表征
面向标准单元和复杂 I/O 的超快速单元库参数提取解决方案
采用纳米工艺进行设计时——尤其是在先进节点上(28nm 及以下)——需要许多其他的库视图,以便获得高质量的硅晶片,并避免由于不精确的签核分析而重新设计硅晶片。为了对特定于电路单元的电压变化或温度梯度进行准确建模,在多个电压和多个温度下对每个库进行提取至关重要,从而增加库工艺角的总数。对于最先进的工艺,越来越普遍的做法是提供更多可以选择的单元库,这会以牺牲面积和性能为代价来提高良率。结果,创建和维护所有这些库视图成为设计流程中的主要瓶颈。
Cadence 以 Cadence® Characterization 产品组合为核心,提供一套库提取工作流。该套件为全球各大客户所使用,其中的产品包括 Liberate™ Trio Characterization Suite、Liberate MX Memory Characterization 和 Liberate AMS Mixed-Signal Characterization,以及通过 Liberate LV Library Validation Solution、Liberate Variety™ Statistical Characterization 和 Liberate Characterization 提供的单独选项。该产品组合为基础 IP 的提取、工艺变化建模和验证提供了完整、强大的解决方案,从标准单元、I/O 和复杂的Mulitbit单元,到存储器和混合信号区块,皆不在话下。Cadence 的 InsideView 技术已获得专利,可通过提高库吞吐量并确保 IP 的时序、功耗、噪声和统计覆盖率,来提供与硅晶片更好的关联性。Characterization 产品组合与 Cadence Spectre® Circuit Simulator 相互集成,后者是行业标准的 SPICE 仿真器,由此提供更大的吞吐量和先进节点库所需的准确度。